氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件,具有很大的现实及潜在应用市场。
|
主要性能参数 |
|
|
生长方法 |
电弧法 |
|
晶体结构 |
立方 |
|
晶格常数 |
a=4.130 Å |
|
熔点 |
2800（℃） |
|
纯度 |
99.95% |
|
密度 |
3.58（g/cm3） |
|
硬度 |
5.5（mohs） |
|
热膨胀系数 |
11.2x10-6（/℃） |
|
晶体解理面 |
<100> |
|
光学透过 |
>90%（200~1000nm） |
|
介电常数 |
ε= 9.65 |
|
热导率 |
36 W/m.k @ 300°K |
|
尺寸 |
5x5，10x10，20x20，30x30mm ,Ø50.8 mm |
|
厚度 |
0.5mm，1.0mm |
|
抛光 |
单面或双面 |
|
晶向 |
<001>, <110>,<111> |
|
晶面定向精度: |
±0.5° |
|
边缘定向精度: |
2°（特殊要求可达1°以内） |
|
Ra: |
≤5Å（5µm×5µm） |
|
包装 |
100级洁净袋，1000级超净室 |
