镓酸钕(NdGaO3)
NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小(~0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。
主要性能参数 |
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晶体结构 |
正交 |
晶胞参数Å |
a=5.43、b=5.50、c=7.71 |
熔点 |
1600℃ |
密度 |
7.57g/cm3 |
介电常数 |
25 |
生长方法 |
提拉法 |
尺寸 |
10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20, |
厚度 |
0.5mm,1.0mm |
抛光 |
单面或双面 |
晶向 |
<100> <110> <111> |
晶面定向精度: |
±0.5° |
边缘定向精度: |
2°(特殊要求可达1°以内) |
斜切晶片 |
可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片 |
Ra: |
≤5Å(5µm×5µm) |
包装 |
100级洁净袋,1000级超净室 |
产品型号 | 所属类目 | 文件 | 单价 | 发货日期 | 购物车 | |
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镓酸钕(NdGaO3)晶体 | 高温超导薄膜基片 | ¥0.00 | 请联系客服 |
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