高温超导-镓酸钕(NdGaO3)晶体

  • 说明介绍
产品说明

镓酸钕(NdGaO3)

NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小(~0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。


主要性能参数

晶体结构

正交

晶胞参数Å

a=5.43、b=5.50、c=7.71

熔点

1600℃

密度

7.57g/cm3

介电常数

25

生长方法

提拉法

尺寸

10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,

厚度

0.5mm,1.0mm

抛光

单面或双面

晶向

<100>  <110>  <111>

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

2°(特殊要求可达1°以内)

斜切晶片

可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片

Ra:

≤5Å(5µm×5µm)

   

包装

100级洁净袋,1000级超净室

通用参数
高温超导-镓酸钕(NdGaO3)晶体
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镓酸钕(NdGaO3)晶体 高温超导薄膜基片
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