氧化锆（ZrO2）单晶基片是最早呗开发应用的高温超导基片之一。由于ZrO2 需掺入钇（Y）以稳定结构，一般实际使用的是YSZ单晶---加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低，特别适于用在是阳性薄膜制备工作中。
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主要性能参数 |
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晶体结构 |
立方 |
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晶格常数 |
a=5.147 Å |
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熔点（℃） |
2700 |
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密度（g/cm3） |
6.0 |
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硬度 |
8-8.5（mohs） |
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纯度 |
99.99% |
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热膨胀系数（/℃） |
10.3×10-6 |
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介电常数 |
ε=27 |
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生长方法 |
弧熔法 |
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尺寸 |
10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， |
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dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm |
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厚度 |
0.5mm，1.0mm |
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抛光 |
单面或双面 |
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晶向 |
<001>±0.5º |
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晶面定向精度: |
±0.5° |
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边缘定向精度: |
2°（特殊要求可达1°以内） |
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斜切晶片 |
可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片 |
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Ra: |
≤5Å（5µm×5µm） |
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包装 |
100级洁净袋，1000级超净室 |
| 产品型号 | 所属类目 | 文件 | 单价 | 发货日期 | 购物车 | |
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掺钇氧化锆（YSZ） | 高温超导薄膜基片 | ￥0.00 | 请联系客服 |
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